恒歌在线式大宗气体系统过滤器专为半导体工艺气体净化设计,凭借卓越的过滤性能、可靠的结构设计与严格的质量管控,成为半导体行业去除工艺气体中颗粒的优选设备,为半导体生产过程中的气体洁净度提供优质保障,助力提升半导体产品质量与生产稳定性。
产品特点
1. 洁净环境制造,奠定稳定工艺基础
过滤器全程在洁净室环境下完成制造,从生产到组装的每一个环节都严格控制粉尘、杂质污染,确保产品本身具备洁净、稳定的工艺表现,避免因设备自身污染影响半导体工艺气体纯度,从源头保障下游生产环节的气体洁净需求。
2. 优质材质选用,耐受严苛工况
外壳材质:采用316L 不锈钢打造外壳,具备出色的耐腐蚀性与高强度特性,可承受高压工况,适配半导体行业中多种工艺气体的输送与过滤需求,有效避免外壳因腐蚀或高压损坏导致的气体泄漏问题。
产品性能
1. 超高颗粒截留率,确保气体洁净度
过滤器在30slpm 流量下,对3nm 及以上颗粒的截留率高达 99.9999999% ,能深度去除半导体工艺气体中的微小颗粒,避免颗粒杂质影响芯片制程,为半导体生产提供超高洁净度的工艺气体,保障晶圆生产质量。
2. 优异流体性能,降低系统能耗
高流量与低初始压降:产品具备高流量特性,同时初始压降低,在保障气体输送效率的同时,减少气体输送过程中的能耗消耗,降低半导体生产的能源成本。
稳定压差表现:在 23°C(73°F)工况下,最大正向压差可达 4 bar(60 psig),最大反向压差为 0.7 bar(10 psig),能在不同工况下保持稳定的过滤性能,适配半导体生产中多变的工艺需求。
3. 紧凑结构设计,节省安装空间
过滤器整体体积小巧、结构紧凑,能有效节省半导体设备内部宝贵的空间资源,同时方便安装操作,适配半导体厂房设备密集、空间有限的安装环境,降低设备布局与安装难度。
4. 可靠质量管控,消除使用隐患
优化滤芯设计:滤芯的设计及材料选择经过严格优化,可有效消除膜片形变和脱落现象,确保下游气体洁净度可靠,避免因膜片问题导致的过滤失效,保障半导体生产的连续性与稳定性。
严格检测流程:产品出厂前需经过100% 氦气泄漏检测,氦气泄漏率低至 1 x 10⁻⁹ atm cc/sec,同时还会进行高纯气体吹扫,保证产品下游颗粒洁净度,确保过滤器在使用过程中无泄漏、无二次污染风险。
产品应用
1. 多密封类型,适配多样系统
提供VCR 垫片密封和卡套管密封两种类型,能适配大多数半导体系统和生产设备的配置,无需额外定制密封配件,降低设备适配成本与难度,提升过滤器的通用性。
2. 丰富应用领域,覆盖半导体气体需求
广泛应用于半导体行业多种气体相关场景,包括:
高纯压缩气体:去除高纯压缩气体中的颗粒,保障气体纯度;
工艺特种气体:为各类工艺特种气体提供过滤纯化,满足特种工艺需求;
气柜和 VMB(阀门 manifold 箱):在气柜和 VMB 中实现气体过滤,保障气体输送过程的洁净;
有毒气体:安全过滤有毒气体中的颗粒,同时避免气体泄漏,保障生产安全;
二次配管:在二次配管环节进行气体过滤,进一步提升气体洁净度,确保下游工艺稳定。