硅晶圆工艺特气管道系统专用过滤器丨洁净压缩空气管道过滤器

1.设备介绍

硅晶圆工艺特气管道系统是半导体制造的核心输送链路，负责将光刻、蚀刻、沉积等关键制程所需的特种气体(如硅烷、氨气、氟化氢等)精准输送至晶圆加工设备，直接影响芯片良率和性能稳定性，对气体纯度要求达 ppb 级。

2. 为何需要使用过滤器

硅晶圆制程中，特气管道内壁的微小尘埃、金属杂质、管道氧化层脱落物，以及气体输送过程中混入的液态微粒，会导致晶圆表面形成缺陷、电路短路或膜层不均匀，直接造成产品报废。过滤器是阻挡污染物进入制程的最后一道关键屏障。

3. 过滤器介绍

恒歌 HF 系列硅晶圆工艺特气管道专用过滤器，专为半导体制程特气系统设计，采用 316L 不锈钢一体成型结构，设计压力 50Mpa，适配特气管道的高压高纯输送需求，可高效滤除气体中 0.01μm 以上的尘埃、金属颗粒、液态杂质及碳氢化合物，确保输出气体纯度符合 SEMI 标准。

4. 产品特点

整体 316L 不锈钢结构，无死角设计，避免二次污染

轻量化小型化，螺纹连接适配特气管道紧凑安装空间，兼容 C/W 型密封规格

耐高温(-20℃~180℃)、耐高压(50Mpa)、耐强腐蚀(适配酸性 / 碱性特气)

过滤效率达 99.999%，不易堵塞，满足长周期连续生产需求

100% 完整性测试及氨气泄露检测通过，符合半导体行业安全标准

滤芯可快速更换，维护不影响管道系统运行

5. 产品应用

适用于硅晶圆制造中的光刻、蚀刻、离子注入、化学气相沉积(CVD)等制程的特气管道系统，涵盖 12 英寸 / 8 英寸晶圆生产线的特种气体净化。

6. 常见问答

Q1：过滤器的过滤精度能达到多少?

A1：常规提供 0.01μm、0.1μm、1μm 多种滤芯规格，可根据特气类型和制程要求定制，最高过滤精度达 0.003μm。

Q2：是否兼容腐蚀性特气(如氟化氢、氯气)?

A2：主体采用 316L 不锈钢，滤芯可选 PTFE、陶瓷等耐腐蚀材质，完全适配腐蚀性特气场景。

Q3：维护周期是多久?

A3：根据气体洁净度和流量，常规维护周期为 6-12 个月，可通过压差表监测滤芯状态(压差>0.3Mpa 时建议更换)。

7. 选型引导

硅晶圆特气管道系统的气体类型、压力参数、过滤精度需求各不相同，如需精准选型，可联系恒歌技术团队获取定制方案!