CVD 化学气相沉积供气系统过滤器丨工业集中供气系统过滤器

CVD 化学气相沉积供气系统是半导体、光伏、精密陶瓷等行业的核心工艺设备，通过将反应气体精准输送至沉积腔体，在基材表面形成均匀薄膜，其供气纯度直接决定薄膜质量与器件性能，是高端制造业的关键环节。

为何需要使用过滤器？

CVD 工艺对气体纯度要求极高，哪怕 0.1μm 的微粒杂质都可能导致薄膜缺陷、针孔、附着力下降，进而造成器件失效；同时反应气体多为腐蚀性或易燃易爆气体，过滤器需兼顾净化效果与安全适配性，是保障 CVD 制程稳定的核心部件。

产品介绍

恒歌 TF 系列 CVD 化学气相沉积供气系统专用过滤器，专为半导体级工艺设计，聚焦 UHP 超纯气体净化需求。采用无死体积结构设计，避免污染物残留，316L 不锈钢全材打造适配腐蚀性反应气体，安装无需焊接，确保密封无忧，为 CVD 工艺提供纯净气流保障。

产品特点

▶ 半导体级超高颗粒拦截率，对 0.01μm 微粒拦截效率≥99.999%

▶ 316L 不锈钢 + PTFE 密封材质，耐温可达 200℃，耐高压≤10MPa

▶ 低流阻设计，确保反应气体输送稳定，不影响沉积工艺参数

▶ 适用于洁净室 Class 1 环境，制造、测试、包装全程无二次污染

▶ 100% 完整性测试 + 氨气检漏，满足半导体行业严苛标准

▶ 可提供 F 直通型 / T 型 / W 型一体式结构，适配不同安装场景

产品应用

半导体芯片薄膜沉积工艺、光伏电池片镀膜系统、精密陶瓷制备 CVD 设备、LED 外延片生长供气系统、集成电路封装 CVD 工艺

常见问答

Q：能否适配 CVD 常用的硅烷、氨气等反应气体？

A：完全适配！316L 不锈钢材质耐腐蚀性优异，可兼容硅烷、氨气、氟化氢等绝大多数 CVD 反应气体。

Q：过滤精度是否满足半导体行业标准？

A：满足！产品符合 SEMI F20 标准，过滤精度最低可达 0.003μm，适配 ppb 级气体净化需求。

Q：安装后会影响供气系统的压力稳定性吗？

A：不会！低阻力设计确保压力损耗≤0.05MPa，不改变 CVD 工艺的气体流量与压力参数。

Q：是否支持在线更换滤芯？

A：支持部分型号在线更换，无需拆卸管道，减少停机时间，提升生产效率。

选型指引

如果您不确定适配的滤芯材质、过滤精度或耐温耐压参数，欢迎联系我们，结合您的 CVD 工艺气体类型与设备参数，提供专业选型建议！