半导体气体大流量异形过滤器的性能优势!

在半导体制造的世界里，工艺气体就如同芯片的 “生命气息”，必须纯净无瑕。而 BF 系列大宗气体专用过滤器则是保障这一纯净度的关键所在，在众多核心应用场景中展现出无可替代的价值。

先说说它在芯片制造关键的光刻环节的作用。在这个精细到纳米级的工序中，大量超高纯氮气被使用。哪怕是极其微小的尘埃颗粒或者微量的有机杂质混在氮气里，都可能让光刻的光线发生散射或者干扰光刻胶的化学反应，最终导致芯片线路图案出现瑕疵。BF 系列过滤器在此处表现卓越，其高达 0.003um 的过滤精度，就像一个超级精密的筛子，把那些可能 “搞破坏” 的杂质统统拦住。它采用全 316L 不锈钢精密打造，这种材质不仅耐腐蚀，还为其坚固的结构提供支撑，确保在高压环境下稳定运行，进一步保证了氮气以最纯净的状态参与光刻过程，大大提高了光刻的精准度和芯片的良品率。

在薄膜沉积工艺里，像金属薄膜或者绝缘薄膜的沉积，常常会用到氩气、氢气等工艺气体。这些气体的纯度对薄膜的均匀性、厚度控制以及电学性能等有着决定性的影响。BF 系列过滤器的多柱状或叠盘状介质设计在此时就大显神通了。它能够在保证大流量气体供应的同时，维持极低的阻损，让气体平稳且持续地进入反应腔室。相比传统过滤器，它的通量提升了近 30%，而压力损失却降低了 20% 左右，这意味着在相同的动力条件下，它能让更多的纯净气体高效地参与薄膜沉积，使得沉积出的薄膜质量更高，性能更稳定，为芯片的整体性能奠定了坚实基础。

还有在蚀刻工艺中，无论是干法蚀刻还是湿法蚀刻，对工艺气体的纯净度要求都极高。蚀刻过程就像是在芯片上进行微观雕刻，如果气体中有杂质，就可能造成蚀刻过度或者不足，使芯片的微观结构出现缺陷。BF 系列过滤器的全 316L 不锈钢材质和出色的过滤性能，能够有效去除气体中的各种杂质，无论是颗粒杂质、水分还是其他有害成分，都能被它精准捕捉。其纳污能力也极为出色，比普通过滤器多容纳约 40% 的杂质，这大大减少了频繁更换滤芯的麻烦，提高了生产效率。在高温且充满化学反应的蚀刻环境中，它的整体金属构造也能安然无恙，稳定地为蚀刻工艺提供纯净气体，确保芯片蚀刻工序顺利进行。

在半导体制造的整个流程中，从前端的晶圆加工到后端的封装测试，BF 系列大流量异形过滤器始终坚守岗位，为每一个工艺环节的工艺气体保驾护航。它就像是一位默默奉献的幕后英雄，虽然不直接参与芯片的功能构建，但却以保障气体纯净度的方式，间接决定了芯片的质量、性能和可靠性，是推动半导体产业不断向前发展的重要力量源泉。

恒歌金属滤材气体过滤器是半导体行业高纯/超纯气体过滤系统的首选

产品特点及规格:

1、耐高温耐高压耐腐蚀

2、整体316L不锈钢结构

3、适用于多种工艺气体

4、高通量、低阻力

5、超高颗粒拦截效率

6、100%氨气检露测试

7、内置0.003-100微米过滤器

8、出口气体各杂质含量小于5ppb

9、可配置两阀、三阀和四阀等组件

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