3纳米真空腔体气体过滤器丨真空腔体快速放气器丨半导体行业用

深圳恒歌 DF 系列气体扩散器过滤器，是专为半导体制程中真空腔体快速放气应用打造的核心装备。这款产品创新性融合了扩散器的优化气流特性与高效过滤器的精密拦截能力，通过独特的结构设计，在实现 0.003μm 超高过滤精度的同时，彻底规避排气过程中的湍流干扰，为光刻、蚀刻等核心制程的真空腔体环境提供全方位保护，堪称半导体制造中的 “洁净卫士”。

产品特点

● 纳米级精准过滤：采用不锈钢粉末烧结介质，过滤精度达 0.003μm，有效拦截超细微颗粒，防止工艺污染。

● 湍流控制设计：全 316L 不锈钢结构优化气流路径，避免排气时产生湍流，防止颗粒扬起或硅片移位。

● 全材质防腐耐用：整体 316L 不锈钢打造，耐高温、耐高压且耐腐蚀，适配各类严苛工艺气体环境。

● 洁净级生产保障：从制造、测试到包装全程在洁净室完成，通过 100% 完整性与氦气泄漏检测。

● 灵活定制适配：可根据安装空间个性化设计，完美适配不同腔体布局与气路系统。

应用场景

作为关键的工艺保护组件，广泛应用于微电子半导体晶圆制程中各类真空腔体的快速放气环节：在光刻工艺腔室中，保障排气时硅片表面不受颗粒污染;在蚀刻设备中，防止湍流干扰工艺气体分布;在薄膜沉积系统中，通过超纯过滤提升薄膜均匀性。尤其适配需要频繁进行真空破真空操作的生产设备，为 12 英寸及更大尺寸晶圆制造提供稳定的洁净环境支持。